Comparação de filmes antirreflexo de TiO2 depositados por diferentes técnicas para células solares de silício
DOI:
https://doi.org/10.59627/rbens.2015v6i1.125Palavras-chave:
Filmes Antirreflexo, Dióxido de Titânio, Células Solares de Silício.Resumo
Neste trabalho foram comparados os filmes antirreflexo de dióxido de titânio depositados por duas técnicas para fabricação de células solares p+nn+ . Este tipo de célula solar é mais estável em longo prazo em relação às células n+pp+ e permite a obtenção de maiores eficiências. Os filmes de TiO 2 foram produzidos por evaporação em alto vácuo com canhão de elétrons e por deposição química em fase vapor a pressão atmosférica. Os filmes foram depositados em lâminas de silício texturadas e caracterizados pela medida da refletância espectral e pela refletância média ponderada. Células solares com estes filmes foram fabricadas e caracterizadas. Os filmes apresentaram refletância média ponderada bastante baixa, da ordem de 2,6 %, não interessando a técnica utilizada. Observou-se que um processo térmico realizado a 840 °C em forno de esteira provocou um aumento da refletância média ponderada da ordem de 0,6 % absolutos. As células solares apresentaram eficiências similares, mas aquelas com filme depositado por evaporação alcançaram maior densidade de corrente de curto-circuito.